video corpo

Système de production PlasmaPro 80 ICP RIE

Système de production - PlasmaPro 80 ICP RIE - Oxford Instruments
Système de production - PlasmaPro 80 ICP RIE - Oxford Instruments
Système de production - PlasmaPro 80 ICP RIE - Oxford Instruments - image - 2
Système de production - PlasmaPro 80 ICP RIE - Oxford Instruments - image - 3
Système de production - PlasmaPro 80 ICP RIE - Oxford Instruments - image - 4
Système de production - PlasmaPro 80 ICP RIE - Oxford Instruments - image - 5
Système de production - PlasmaPro 80 ICP RIE - Oxford Instruments - image - 6
Système de production - PlasmaPro 80 ICP RIE - Oxford Instruments - image - 7
Système de production - PlasmaPro 80 ICP RIE - Oxford Instruments - image - 8
Ajouter à mes favoris
Ajouter au comparateur
 

Description

Le PlasmaPro 80 ICP est un système compact, de faible encombrement, qui offre des solutions de gravure ICP polyvalentes avec un chargement ouvert pratique. Il est facile à installer et à utiliser, sans compromis sur la qualité du processus. La conception à chargement ouvert permet de charger et de décharger rapidement les plaquettes, ce qui est idéal pour la recherche, le prototypage et la production de faibles volumes. Il permet des processus de haute performance grâce à un refroidissement optimisé des électrodes et à un excellent contrôle de la température du substrat. La conception à charge ouverte permet un chargement et un déchargement rapides des plaquettes Excellent contrôle de la gravure et détermination de la vitesse Excellente uniformité de la température de la plaquette Plaques jusqu'à 200 mm Faible coût de possession Construit selon les normes Semi S2/S8 Applications Procédés de gravure III-V Bosch silicium et procédés de gravure cryogénique Gravure au SiO2 et au quartz Analyse des défaillances, gravure à sec, gravure de puces et de matrices jusqu'à la gravure de plaquettes de 200 mm Dépôt et gravure de masques durs pour la production de diodes électroluminescentes (DEL) à haute luminosité Caractéristiques Faible encombrement - Facile à installer Refroidissement optimisé des électrodes - Contrôle de la température du substrat Configuration de pompage radial à haute conductivité (symétrie axiale) - Garantie d'une meilleure uniformité du processus et les taux sont plus élevés que la moyenne Ajout de l'enregistrement des données < 500ms - Traçabilité et historique des conditions de la chambre et du procédé Turbopompe à couplage étroit - Vitesse de pompage élevée et excellente pression de base Facilité d'accès aux composants clés - Amélioration de la facilité d'entretien et de la maintenance Système de contrôle X20 - Améliore considérablement la récupération des données et permet d'obtenir des résultats plus rapides et plus reproductibles Diagnostic des pannes et des outils via le logiciel frontal - Diagnostic rapide des pannes

---

Catalogues

Aucun catalogue n’est disponible pour ce produit.

Voir tous les catalogues de Oxford Instruments
* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.