video corpo

Système de production PlasmaPro 80 RIE

Système de production - PlasmaPro 80 RIE - Oxford Instruments
Système de production - PlasmaPro 80 RIE - Oxford Instruments
Système de production - PlasmaPro 80 RIE - Oxford Instruments - image - 2
Système de production - PlasmaPro 80 RIE - Oxford Instruments - image - 3
Système de production - PlasmaPro 80 RIE - Oxford Instruments - image - 4
Ajouter à mes favoris
Ajouter au comparateur
 

Description

Le PlasmaPro 80 est un système de gravure ionique réactive (RIE) compact et de faible encombrement qui offre des solutions de gravure et de dépôt polyvalentes avec un chargement ouvert pratique. Il est facile à installer et à utiliser, sans compromis sur la qualité du processus. La conception à chargement ouvert permet de charger et de décharger rapidement les plaquettes, ce qui est idéal pour la recherche, le prototypage et la production de faibles volumes. Il permet des processus de haute performance grâce à un refroidissement optimisé des électrodes et à un excellent contrôle de la température du substrat. La conception à charge ouverte permet un chargement et un déchargement rapides des plaquettes Excellent contrôle de la gravure et détermination de la vitesse Excellente uniformité de la température de la plaquette Plaques jusqu'à 200 mm Faible coût de possession Construit selon les normes Semi S2/S8 Caractéristiques du système Faible encombrement - Facile à installer Refroidissement optimisé des électrodes - Contrôle de la température du substrat Configuration de pompage radial à haute conductivité (symétrie axiale) - Garantie d'une meilleure uniformité du processus et les taux sont plus élevés que la moyenne Ajout de l'enregistrement des données < 500 ms - Traçabilité et historique des conditions de la chambre et du processus Turbopompe à couplage étroit - Vitesse de pompage élevée et excellente pression de base Facilité d'accès aux composants clés - Amélioration de la facilité d'entretien et de la maintenance Système de contrôle X20 - Améliore considérablement la récupération des données et permet d'obtenir des résultats plus rapides et plus reproductibles Diagnostic des pannes et des outils via le logiciel frontal - Diagnostic rapide des pannes Détection du point final par interférométrie laser - Mesure de la profondeur de gravure dans les matériaux transparents sur les surfaces réfléchissantes (par exemple, les oxydes sur Si), ou réflectométrie pour les matériaux non transparents (tels que les métaux) afin de déterminer les limites de la couche

---

Catalogues

Aucun catalogue n’est disponible pour ce produit.

Voir tous les catalogues de Oxford Instruments

Autres produits Oxford Instruments

Reactive Ion Etching (RIE)

* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.