Le PlasmaPro 800 offre une solution flexible pour les procédés de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) sur de grands lots de plaquettes et sur des plaquettes de 300 mm, dans un système compact à chargement ouvert. Le plateau de grande taille permet de traiter des lots à l'échelle de la production et de manipuler des plaquettes de 300 mm.
Procédés de haute performance
Excellent contrôle de la température du substrat
Contrôle précis du processus
Procédés éprouvés pour l'analyse des défaillances des plaquettes de 300 mm
Vue d'ensemble
Le PlasmaPro 800, avec une table de 460 mm de diamètre, offre une capacité totale de 300 mm ou de 43 x 50 mm (2") pour les grands lots, ce qui permet des solutions de production complètes et fait du PlasmaPro 800 un produit leader du marché qui a fait ses preuves.
Caractéristiques
Le PlasmaPro 800 offre une flexibilité maximale pour les applications de semi-conducteurs composés, d'optoélectronique et de photonique :
Grande électrode - Faible coût d'exploitation
Détection du point final de gravure - Fiabilité et facilité d'entretien
Détection du point final par interférométrie laser et/ou spectroscopie d'émission optique - Peut être installé pour améliorer le contrôle de la gravure
Options d'un pod de gaz à 4, 8 ou 12 lignes - Offre une flexibilité dans les processus et les gaz de processus, et peut être placé à distance dans la zone de service, loin de l'outil de processus principal
Turbopompe à couplage étroit - Vitesse de pompage élevée et excellente pression de base
Enregistrement des données - Traçabilité et historique des conditions de la chambre et du procédé
Électrodes refroidies par fluide et/ou chauffées électriquement - Excellent contrôle et stabilité de la température des électrodes
Applications
Analyse des défaillances, traitement des gravures à sec à l'aide de nos outils d'analyse des défaillances spécialement configurés, avec RIE et mode double
Procédés RIE/PE allant de la gravure de puces et de matrices emballées à la gravure de plaquettes de 300 mm
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