Système de production PlasmaPro 100 ICPCVD

Ce module de traitement ICPCVD est conçu pour produire des films de haute qualité à des températures de croissance basses, grâce à des plasmas distants de haute densité qui permettent d'obtenir une qualité de film supérieure avec un faible endommagement du substrat. Excellente uniformité, haut débit et procédés de haute précision Films de haute qualité Électrode à large plage de température Compatible avec toutes les tailles de plaquettes jusqu'à 200 mm Changement rapide entre les tailles de plaquettes Faible coût de possession et facilité d'entretien Empreinte compacte, disposition flexible Électrodes chauffées par résistance avec une capacité allant jusqu'à 400°C ou 1200°C Nettoyage in situ de la chambre et pointage final Module flexible de distribution de vapeur permettant le dépôt de films utilisant des précurseurs liquides, par exemple TiO2 en utilisant le TTIP, SiO2 en utilisant le TEOS Applications Films d'excellente qualité et peu endommagés à des températures réduites. Les matériaux typiques déposés comprennent SiO2, Si3N4 et SiON, Si et SiC à des températures de substrat aussi basses que 5ºC Sources ICP de 65 mm, 180 mm et 300 mm assurant l'uniformité du processus jusqu'à des plaquettes de 200 mm Électrodes disponibles pour des plages de température allant de 5ºC à 400ºC Technologie brevetée de distribution de gaz ICPCVD Nettoyage in situ de la chambre avec point final Module flexible de distribution de vapeur permettant le dépôt de films utilisant des précurseurs liquides, par exemple TiO2 utilisant le TTIP, SiO2 utilisant le TEOS Le chauffage des parois réduit les dépôts sur les parois de la chambre Le refroidissement de la face arrière à l'hélium avec serrage mécanique garantit des températures uniformes pour les plaquettes et des propriétés de film optimisées Support client mondial Oxford Instruments s'engage à fournir un support client mondial complet, flexible et fiable. Nous offrons un service d'excellente qualité tout au long de la durée de vie de votre système.