Système de production Atomfab

Atomfab est le système ALD de production de plasma à distance le plus rapide du marché. DES SOLUTIONS POUR VOS BESOINS DE PRODUCTION CoO compétitif Entretien facile et rapide Excellente uniformité du film Haute qualité des matériaux Faible endommagement du substrat Cycles plus rapides, rendement élevé Manipulation automatisée et en grappe des wafers PERFORMANCE La technologie ALD d'Atomfab offre des films ultra-minces contrôlés avec précision pour des applications avancées à l'échelle du nanomètre, avec un revêtement conforme des structures de substrats sensibles. AVANTAGES DU PROCÉDÉ POUR LA PASSIVATION DES DISPOSITIFS DE PUISSANCE ET DE RADIOFRÉQUENCE Processus garantis mis en place par nos ingénieurs Assistance à vie pour les nouveaux processus ou les processus supplémentaires Traitement au plasma à faible dommage Dépôt de haute qualité avec une faible contamination du film Faibles niveaux de particules Temps d'exposition au plasma courts permettant un débit élevé Prétraitements de surface par plasma AVANTAGES DE LA PLASMA ALD POUR LES DISPOSITIFS GaN, PUISSANCE ET RF Avec un prétraitement par plasma avant le dépôt pour améliorer la qualité de l'interface Faible endommagement, dépôt uniforme ALD par plasma à distance avec énergie ionique contrôlée de près de zéro à 30 eV Passivation ALD, diélectrique de grille par des films d'Al2O3. SUPPORT CLIENT MONDIAL Oxford Instruments s'engage à fournir un support client mondial complet, flexible et fiable. Nous offrons un service d'excellente qualité pendant toute la durée de vie de votre système. Le logiciel de télédiagnostic permet de diagnostiquer et de résoudre rapidement et facilement les problèmes Des contrats d'assistance sont disponibles pour s'adapter au budget et à la situation Pièces de rechange mondiales dans des lieux stratégiques pour une réponse rapide