Système de production PlasmaPro 100 Nano CVD

Outils de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et PECVD pour la croissance de nanomatériaux et d'hétérostructures 1D/2D. Le PlasmaPro 100 Nano (anciennement Nanofab) permet une croissance très performante des nanomatériaux grâce à l'activation in situ du catalyseur et à un contrôle rigoureux du processus, avec des températures flexibles allant jusqu'à 1 200 °C. Excellente uniformité avec des températures flexibles jusqu'à 1200°C Options d'une table à 700°C, 800°C ou 1200°C Taille des échantillons jusqu'à 200 mm Verrouillage de la charge sous vide - Échange rapide d'échantillons Conception de paroi froide avec douchette pour une distribution uniforme des précurseurs Système de distribution de sources liquides/solides en option pour la croissance de MoS2, MoSe2 et autres TMDCs Excellente uniformité avec des températures flexibles jusqu'à 1200°C Options d'une table de 700°C, 800°C ou 1200°C Taille des échantillons jusqu'à 200 mm Verrouillage de la charge sous vide - Échange rapide d'échantillons Conception de paroi froide avec douchette pour une distribution uniforme des précurseurs Système de distribution de sources liquides/solides en option pour la croissance de MoS2, MoSe2 et autres TMDCs Support client mondial Oxford Instruments s'engage à fournir un support client mondial complet, flexible et fiable. Nous offrons un service d'excellente qualité tout au long de la durée de vie de votre système. Le logiciel de diagnostic à distance permet de diagnostiquer et de résoudre rapidement et facilement les problèmes. Des contrats d'assistance sont disponibles pour s'adapter au budget et à la situation. Des pièces de rechange mondiales sont disponibles dans des lieux stratégiques pour une réponse rapide.