Système de production FlexAL

Le système de dépôt de couches atomiques (ALD) FlexAL offre une large gamme de procédés ALD plasma et ALD thermique optimisés et de haute qualité, avec une flexibilité maximale en matière de précurseurs, de gaz de traitement et de configuration matérielle au sein d'une seule chambre de traitement. Plasma à distance pour une ALD par plasma à faible dommage combinée à une ALD thermique dans une seule chambre de dépôt Option d'électrode polarisée par radiofréquence disponible pour le contrôle des propriétés du film Manipulation de cassette à cassette conforme aux normes de l'industrie pour un débit plus élevé Flexibilité maximale dans le choix des précurseurs, des gaz de traitement, des caractéristiques matérielles et des options Optimisé pour maintenir des substrats de haute qualité et peu endommagés Les revêtements amovibles facilitent l'entretien de la chambre Basse température pour permettre un dépôt de haute qualité sur des surfaces sensibles à la température Vue d'ensemble La famille de produits ALD comprend une gamme d'outils permettant de répondre aux diverses demandes des universités, des entreprises de R&D et de la production à petite échelle. Oxford Instruments dispose d'une vaste bibliothèque de procédés, et de nouveaux procédés sont continuellement développés. Nous fournissons une assistance gratuite pendant toute la durée de vie d'un outil ALD, en offrant des conseils sur le développement de nouveaux matériaux et un accès continu à nos derniers développements de procédés ALD, y compris de nouvelles recettes de procédés. Les ions jouent un rôle important dans les procédés ALD au plasma. Ils peuvent améliorer la qualité des films, en particulier pour les nitrures et à des températures de dépôt plus basses. Cependant, certaines interfaces et certains substrats peuvent être sensibles aux ions, ce qui peut endommager les dispositifs. Le système ALD FlexAL contrôle précisément les ions du plasma grâce à une source de plasma avancée et à une unité d'adaptation automatique (AMU), ce qui permet de tirer le meilleur parti du plasma tout en minimisant les dommages.