Le FIB-SEM Hitachi Ethos intègre la dernière génération de FE-SEM avec une luminosité et une stabilité du faisceau exceptionnelles. Ethos offre une imagerie haute résolution à basse tension combinée à une optique ionique pour un traitement de précision à l'échelle nanométrique.
Caractéristiques principales
1. Colonne FE-SEM haute performance avec mode double lentille
Observation à très haute résolution (mode HR : semi-intégration)
Détection de point final de haute précision en temps réel (mode FF : Field Free (mode de partage du temps))
2. Traitement des matériaux à haut débit
Traitement ultra-rapide avec une densité de courant ionique élevée (courant de faisceau maximal : 100 nA)
Script programmable par l'utilisateur pour le traitement automatique et l'observation
3. Système de micro-échantillonnage
Contrôle de l'orientation de l'échantillon entièrement intégré pour l'effet anti-curtaining (technologie ACE)
Préparation d'échantillons TEM pour des lamelles uniformes quelle que soit leur orientation
4. Capacité de triple faisceau, pour des résultats de qualité supérieure
Traitement des matériaux par faisceau d'ions de gaz rares à faible accélération
Des fonctions innovantes réduisent les artefacts liés aux ions Ga et autres artefacts de fraisage
5. Grande chambre et scène à ports multiples pour diverses applications
Système capable de traiter des échantillons de grande taille avec une stabilité exceptionnelle de la platine
Suivi à longue distance amélioré de la gamme complète (155 x 155 mm)
Optique électronique raffinée et détection multi-signaux
La colonne du MEB Ethos est composée d'un système d'objectif composé à champ magnétique et électrostatique configuré en deux modes d'objectif.
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