Accès supplémentaire de 300 mm aux échantillons pour la R&D sur les semi-conducteurs, l'analyse des défaillances et l'identification des nanocontaminants
Le système Dimension IconIR300™ nanoIR à grand échantillon permet une caractérisation nanométrique à grande vitesse et à haute précision pour les applications de semi-conducteurs, avec des capacités, une taille d'échantillon et une flexibilité de type de matériau inégalées. Grâce à sa combinaison de spectroscopie IR photothermique propriétaire et de capacités de cartographie des propriétés AFM à l'échelle nanométrique, IconIR300 permet l'inspection automatisée des plaquettes et l'identification des défauts sur la plus large gamme d'échantillons de plaquettes et de masques photos. Le système étend considérablement l'application de la technologie AFM-IR aux segments de l'industrie des semi-conducteurs au-delà de la portée des techniques traditionnelles.
Basé sur l'architecture révolutionnaire du système Dimension IconIR pour les grands échantillons, IconIR300 offre une microscopie corrélative et une imagerie chimique, ainsi qu'une résolution et une sensibilité accrues. Intégré à la manipulation automatisée des plaquettes et à un logiciel avancé de collecte et d'analyse des données, le système permet de réaliser des économies de temps et d'argent et d'améliorer l'efficacité de la production.
Plaque entière
caractérisation des propriétés chimiques et matérielles à l'échelle nanométrique
Combine la spectroscopie IR et la cartographie AFM des propriétés pour des mesures très précises et non destructives de plaquettes de 200 mm et 300 mm.
Sans ambiguïté
identification des nano-contaminants organiques/inorganiques
Amélioration de la qualité des plaquettes de semi-conducteurs et des masques photographiques grâce aux données AFM-IR photothermiques directement corrélées aux bibliothèques FTIR.
Automatisé
automatisées basées sur des recettes
Accès convivial à des données complètes et prise en charge des fichiers KLARF.
Seul le système Dimension IconIR300 offre :
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