Angstrom Advanced propose une gamme complète d'ellipsomètres pour les mesures d'épaisseur de couches minces, la caractérisation optique de l'indice de réfraction et l'analyse du coefficient d'extinction (n & k). Les ellipsomètres Angstrom Advanced Inc. peuvent être utilisés pour de nombreuses applications différentes et sont utilisés dans certains des laboratoires les plus prestigieux tels que le MIT, la NASA, UC Berkeley, l'Université de Yale, l'Université de Duke, le NIST et bien d'autres encore.
Le PHE101 est le dernier ellipsomètre à longueur d'onde discrète avec de nombreuses nouvelles caractéristiques, telles qu'une bibliothèque de matériaux, un grand angle variable, un second laser pour l'alignement et un logiciel puissant faisant de l'ellipsomètre PHE101 un ellipsomètre de haute précision et répétitif.
Excellente précision et répétition
Fonctionnement rapide de l'analyseur rotatif.
Logiciel puissant avec bibliothèque de matériaux
Angle variable le plus large 10-90°
La mise au point automatique compense la topographie de l'échantillon et le désalignement de la tranche de silicium
Grande stabilité et reproductibilité de l'angle mesuré, meilleure que 0,01°
Vitesse de mesure inférieure à 1 seconde
L'ellipsomètre PHE101 est un ellipsomètre à longueur d'onde discrète idéal pour mesurer l'indice de réfraction, le coefficient d'extinction (n & k) et l'épaisseur des films simples et multicouches.
L'ellipsomètre PHE101 permet des lectures rapides et précises grâce à son analyseur/détecteur optique de précision et à sa conception mécanique stable. L'ellipsomètre PHE101 est fourni avec un logiciel Windows intégré, qui améliore encore la rapidité et la facilité d'utilisation de l'instrument.
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